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AE-100
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奈米3D顯微形貌快速呈現
白光干涉顯微檢測儀的相移垂直掃描的專利技術與顯微光干涉技術,不需要複雜光路調整程序,即可在非接觸、無破壞、普通大氣環境下完成3D奈米深度的表面檢測分析,不僅提供3D表面形狀和表面紋理的分析,更可提供鏡面表面的奈米級粗糙度和台階高度分析, 並追溯至ISO國際規範。
SWIM系列掃描白光干涉顯微檢測儀,具有極強的測量能力,可在幾秒內就完成整個視場的掃描,得到測量樣品的3D圖形與高度數據,檢測速度與深度量測能力優於逐點逐面掃描的 共焦掃描顯微鏡,3D圖形量測能力又優於掃描式電子顯微鏡的2D平面檢測能力,且不需要使用電子束或雷射,開機快又安全,維護成本更低。
無論是拋光面,還是粗糙面,甚至是高透明材質(例如石英),只要有超過1%以上的反射率就能夠被檢測。 SWIM系列顯微檢測儀適合各種材料與微元件表面特徵和微尺寸檢測。
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相移垂直掃描專利技術,使深度解析度達0.1nm

 

SWIM系列顯微檢測儀提供Z軸掃描解析度0.1nm,平面空間分辨力0.5 um (50X物鏡)的量測能力,最高達12 um/s的垂直掃描速度,所具有的奈米3D顯微形貌快速呈現能力是科研研發生產品檢時所必備的工具。

 

    

 AE-100M系列 (通用規格)


    AE-100M系列

型號

EA-100M

移動台行程

100X100

物鏡放大倍率

10X

20X

50X

觀察與量測範圍(mm)

0.43X0.32

0.21X0.16

0.088X0.066

光學解析度(um)mm

0.92

0.69

0.5

收光角度(Degrees)

17

23

33

工作距離

7.4

4.7

3.4

CCD解析度

640X480

Z軸移動範圍

80mm,手動,粗調/微調

Z軸位置顯示器

解析度1u

 傾斜調整平台

 雙軸/手動

高度量測

 量測範圍

 100um(400um選配)

 量測解析度

 0.1nm

 重覆解析度

 0.1%  (量測高度:>10um)

 10nm (量測高度:>1um~10um)

 5nm    (量測高度:<1um)

 量測控制

AUTO 

 掃瞄速度(um/s)

12(最高

光源

 光源類型

儀器用鹵素()光源 

 平均使用壽命

1000小時(100w)  500小時(150w) 

 光強度調整

自動/手動 

 電源與環境要求

 電源

AC110/220V50/60HZ 

 環境震動要求

VC-C 

量測與分析軟體

 量測軟體

 Imgcan量測軟體

 具 VSI / PVSI / PSI量測模式(PSI量測模式需另選配PSI模

 組搭配)

 分析軟體

    PostTopo分析軟體:

    1ISO粗糙度/階高分析

    2。外型/面積/體積分析 

    3。報表輸出